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MiniLab-WCF, -WMF
φ2〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクト・簡単操作 2200℃まで均一なアニール処...
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用R&D用超高温実験炉。 ◆主な特徴◆...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・...
SH-IN, SH-BN
CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハ...
大学・公的機関研究開発部門、半導体・真空装置メーカーなどで真空薄膜実験用に多数...
nanoCVD-8G, nanoCVD-8N
大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 1バッチわ...
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→11...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! '...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下...
BWS-NANO
多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その...