電子ビーム描画装置
ELS-F125
世界初、後方散乱電子の影響、近接効果の影響が極めて小さい超高加速電圧125kVでの電子ビームリソグラフィー！
世界最高峰の加速電圧125ｋVを採用し、5nmを切る究極の極細線描画性能と圧倒的な高スループットを実現！
エリオ二クス開発陣の永年に渡る経験、情熱、独創が見事に結晶。
・最高125kVの加速電圧、最小径Φ1.7nmのビームが、長時間安定して得られます。
これにより、最小線幅4nmの超微細パターンを実現いたしました。
・市販レジストを使用しての線幅5nmの極細線パターン描画を保証いたします。
・超高加速電圧125kVにより、極小線幅かつ高アスペクト比パターンが容易に得られます。
・後方散乱電子の影響、近接効果の影響が極めて小さく、描画条件出しの負担が大幅に軽減します。
・電子ビーム照射位置を制御するための電子光学系の大幅な見直しにより、描画フィールドに於ける面内歪みを
極力抑え、フィールドサイズも大幅に拡大しました。これにより、描画スループットが大幅に向上しました。
・描画ステージ系に加え、電子光学系の見直しにより、フィールドつなぎ精度、レジストレーション描画
(重ね合わせ)精度が大幅に向上しました。より広範囲に、均一かつ高精度なスポットビーム方式による
直接描画が実現いたします。
| 主な用途 | 業界でトップシェアを誇り、世界最高峰の超高精度モデルを始め幅広いラインアップがあり、様々な用途に合わせた最適な一台をお選びいただけます。 ・弊社の技術力を結集した描画力！ 超微細パターンが高精度に、高速に描画できます。 ・良好な重ね合わせ精度により、広領域にわたる連続したパターニングが高速に行えます。 ・使用用途は多岐にわたります。 【応用分野】 光集積回路・SAWデバイス・量子効果素子・超伝導素子・ホログラム・センサーデバイス･ナノインプリント用 モールド・マイクロマシンの試作。 |
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| URL | http://www.elionix.co.jp/products/els_f125.html |
企業情報
株式会社エリオニクス
科学技術の進歩とその応用が便利で快適な生活の向上や自然環境の維持に重要な役割を果たしています。 特に飛躍的な革新をもたらす技術としてナノテクノロジーが注目され、情報通信・ライフサイエンス・環境・...
〒 192-0063
東京都八王子市元横山町3-7-6